等離子清洗機(jī)在清洗時(shí)進(jìn)入工作氣體在電磁場(chǎng)的作用下所激發(fā)的等離子與物體外表產(chǎn)生物理反應(yīng)和化學(xué)反應(yīng)，物理反應(yīng)機(jī)制是活性粒子轟擊待清洗外表，使污染物脫離外表終被真空泵吸走，進(jìn)而達(dá)到清洗目的?；瘜W(xué)反應(yīng)機(jī)制是多種活性的粒子和污染物反應(yīng)轉(zhuǎn)化成易揮發(fā)性的物質(zhì)，再由真空泵吸走揮發(fā)性的物質(zhì)。

　　使用等離子體清洗可以很容易清除掉生產(chǎn)過程中所形成的這些分子水平的污染，保證工件表面原子與即將附著材料的原子之間緊密接觸，從而有效地提高引線鍵合強(qiáng)度，改善芯片粘接質(zhì)量，減少封裝漏氣率，提高元器件的性能、成品率和可靠性。

　　為保證銅引線框架即銅支架在打線和封塑時(shí)可靠性，提升良率，通常會(huì)使用等離子清洗機(jī)對(duì)銅支架進(jìn)行等離子清洗，其等離子處理的效果受多重因素影響，以往大家關(guān)注會(huì)集中在銅支架自身以及所選用的設(shè)備及參數(shù)。但其實(shí)料盒本身的幾方面因素也會(huì)對(duì)等離子處理的效果有不小的影響。

　　1、規(guī)格尺寸

　　不同規(guī)格尺寸的銅引線框架所對(duì)應(yīng)使用的料盒尺寸也是不同的，而料盒尺寸對(duì)等離子清洗處理的效果有一定關(guān)系，通常來說，料盒的尺寸越大，等離子體進(jìn)入料盒內(nèi)部的時(shí)間就會(huì)越長(zhǎng)，對(duì)等離子處理的均勻性及效果有所影響。

　　2、間距大小

　　這里所談及的間距主要是指每層銅引線框架之間的距離，間距越小，等離子清洗銅引線框架的效果和均勻性會(huì)相應(yīng)地變差。

　　3、槽孔特點(diǎn)

　　將銅引線框架放入料盒進(jìn)行等離子清洗處理，假如四面不開槽，就會(huì)形成遮擋，等離子體很難進(jìn)入，影響處理的效果，與此同時(shí)還需要的是屏蔽效應(yīng)、開槽孔的位置、槽孔大小。

　　上述就是小編今天為大家準(zhǔn)備的全部資料，希望能夠讓您更多的了解本產(chǎn)品。